pcb清洗剂清单：PCB药水厂商列出pcb清洗剂清单:pcb化学品又称电子化工材料。一般泛指电子工业使用的专用化学品和化工材料，即电子元器件、印刷线路板、工业及消费类整机生产和包装用各种化学品及材料。pcb化学品用途主要在PCB智造过程中，PCB制造从开料到成品包装有干制程、湿制程几十道工序，工艺流程长，控制点繁琐，影响品质因素多，而基本上每一道工序都用到化学品，化学品的品质将直接影响到PCB板的各项性能。化学品约占PCB成本的10%至30%。
PCB药水主要有以下这些：
碱性除油剂KP-1371/本品是一款润湿性好、耐受性强、使用寿命长的PCB印制电路板PTH清洁调整剂。KP-1371可显著提化学铜背光等级，其特殊之处还体现在超低的钯消耗量。该品适用于中高Tg多层及超多大孔径比的FR-4等基材的电荷调整剂。
碱性除油剂KP-1233/本品是一款润湿性好、电荷调整能力强的PCB印制电路板PTH清洁调整剂。特别适用于难处理的特氟龙(PTFE)及高Tg的FR-4基板的碱性除油及电荷调整。KP-1233可大幅提化学铜背光等级，显著降低孔无铜几率。
碱性除油剂KP-1510/本品是一款适用基材特别广泛、性能稳定、电荷调整能力极强的PCB印制电路板PTH清洁调整剂。KP-1510可显著提化学铜背光等级，其特殊之处还体现在超低的钯消耗量。该品适用于高密度多层数高孔径比的FR-4、特氟龙(PTFE)、玻璃、铝基等多种基材的电荷调整。
FPC黑孔除油剂KP-1736/本品是一款润湿性好、渗透性强的的FPC黑孔直接电镀清洁剂。黑孔除油剂KP-1736特别适用于黑孔处理前的清洁调整，可显著改善基板孔壁性能，增强黑孔剂的附着性。
FPC黑孔调整剂KP-1737/本品是一款调整能力强、耐受性好的的FPC黑孔直接电镀整孔剂。整孔剂KP-1737适用于黑孔前的清洁调整，增强直接电镀的可靠性。
无铅助焊剂KP-1807/本品是一款润湿性好、耐受性强的PCB无铅助焊剂。KP-1807适用于垂直喷锡，特别适用于IC位点密集的线路板，无锡杂，上锡性好。
电子清洗剂KP-1030(线路板清洗剂KP-1030 )/本品为环保型非水性电子清洗剂，具有良好的油脂溶解能力，可能迅速溶解油类脂类等污物。电子清洗剂KP-1030可用印制电路板(PCB)及光电基板等器件的擦拭及超声波清洗。电子清洗剂KP-1030不伤油墨，不留白斑，对基材无腐蚀性。
EVA胶清洗剂KL-1200/EVA胶清洗剂KL-1200 本品为环保型非水性电子清洗剂，具有良好的溶胶能力，可能迅速溶解EVA残胶。
防静电除油清洗剂KL-1101/本品为环保型离子液体，用于清洗盛放芯片、二极管的器具，可迅速清除其表面的油污，同时可导走其表面的多余电荷 。
光学玻璃清洗剂 KL-2101/KL-2101是针对光学玻璃其生产加工过程中污染物的特殊性而研制的一种环保型水基清洗剂。该产品可以用于视窗盖板玻璃，光学成像玻璃等基材的清洗，可有效地除去表面的手指印、油污，灰尘等残留物，同时可有效除去由于硬水中钙镁离子残留所形成的污染物，显著降低玻璃基材表面的水滴角。
配槽浓度：根据清洗对象和污染程度将原液稀释到1-10%，推荐最佳使用浓度为2-5%，可采用浸泡，超声波，喷淋等清洗方式。
使用温度：50-75℃，最佳使用温度为50-65℃。
蓝宝石玻璃清洗剂 KL-2102/KL-2102是针对蓝宝石晶片在生产加工过程中污染物的特殊性而研制的一种环保型水基清洗剂。该产品可用于蓝宝石类基板等材料的清洗，可有效地除去基材表面的研磨残留物、油污，无机杂质等污染物，显著提高基材的清洁度。
配槽浓度：根据清洗对象和污染程度将原液稀释到5-15%。可采用浸泡，超声波，喷淋等清洗方式。
使用温度： 50-80℃，最佳使用温度为60-75℃。
除蜡清洗剂 KL-2066/KL-2066是针对光学玻璃及宝石晶片在抛光过程中粘附的蜡油等污染物的特殊性而研制的一种环保型复配清洗剂。该产品可用于玻璃、特种陶瓷、蓝宝石类基板等材料的清洗，可有效地除去基材表面的研磨油蜡，无机杂质等残留物，显著提高基材的清洁度。
配槽浓度： 根据清洗对象和污染程度将原液稀释到10-20%，需要有超声波40Hz;浸泡时间根据实际需要，推荐浸泡时间3-15分钟。
使用温度：60-80℃，最佳使用温度为70-80℃。
石英玻璃清洗剂(手表) KL-2107/本品适用于石英玻璃，手表盖板等材质的清洗，可有效去除其表面的抛光粉，磨削液，玻璃微粒，油性污垢等。清洗剂KL-2107清洗剂效果好，不伤基材，不含ROHS禁止物质。
配槽浓度： 根据清洗对象和污染程度将原液稀释到3-10%。可采用浸泡，超声波，喷淋等清洗方式。
使用温度：50-80℃，最佳使用温度为60-75℃。
光纤清洗剂 KL-2068/本品适用光纤玻璃等光电介质表面的抛光蜡、油污及研磨液的清洗，清洗后的光纤表面洁净度高，各项光电性能无不良影响。
配槽浓度： 根据清洗对象和污染程度将原液稀释到5-15%，可配合超声波40Hz;浸泡时间根据实际需要，推荐浸泡时间3-15分钟。
使用温度：60-80℃，最佳使用温度为70-80℃。
光学玻璃脱墨剂 KL-2210/
KL-2210是针对手机盖板玻璃，光学玻璃加工过程中使用的阻光油墨的特殊性而研制的一种水溶性清洗剂。该产品可以有效除去光学玻璃边缘所涂覆的阻光膜，同时对玻璃基材无不良影响;该产品使用寿命长，消耗量低，脱墨后的玻璃基材极易漂洗。尤适用于涂墨、接合、镀膜之不良品的返修工序。适用于涂墨、接合、镀膜之不良品的返修工序。
配槽浓度： 原液使用。
使用温度：80-90℃左右，将玻璃板浸泡在槽液中约3-35分钟至板面油墨层褪除。
光学玻璃脱墨剂 KL-2111/KL-2111是针对手机盖板玻璃，光学玻璃加工过程中使用的阻光油墨的特殊性而研制的一种水性清洗剂。该产品可以有效除去光学玻璃边缘所涂覆的阻光膜，同时对玻璃基材无划伤，崩边等不良影响;该产品使用寿命长，消耗量低，脱墨后的玻璃基材极易漂洗。速度较KL-2210快。
配槽浓度： 原液使用。
使用温度：90℃左右，将玻璃板浸泡在槽液中约3-35分钟至板面油墨层褪除。
无损伤光学玻璃脱墨剂 KL-2207/KL-2207是一款针对耐碱性差的玻璃基材的褪镀液，无损伤光学玻璃脱墨剂KL-2207非常适合于敏感玻璃材质的不良阻光油墨的褪除。
配槽浓度：原液使用
使用温度：70-80℃左右，将玻璃板浸泡在槽液中约15-35分钟至板面油墨层褪除。
光学玻璃褪镀液 KL-2208/KL-2208是褪镀涂覆在光学玻璃上的金属及非金属复合镀层的一种环保型水基褪镀液。该产品用于手机盖板玻璃，光学玻璃等材料的不良金属镀层的褪除，同时可以有效除去由于钙镁离子残留所形成的污染物，显著降低清洗后的玻璃基材的水滴角。
配槽浓度： 原液或适当稀释;可采用浸泡，超声波，喷淋等清洗方式。
作用温度：60-80℃，最佳使用温度为70±5℃。
使用时间：60-150秒，最佳时间为85-95秒。
光学玻璃切削液 KL-2445/KL-2445是半合成型玻璃磨削液，该体系是多种防锈剂，润滑剂等组分构成，具有良好的防锈性、沉降性以及光洁度。
适合光学玻璃研磨、CNC精雕等工序使用。
配槽浓度：1-7%。
使用温度：常温。
蓝宝石玻璃褪镀液 KL-2202/KL-2202是针对蓝宝石基材的金属氧化物及氮化物镀层研制的褪镀液。该产品可有效褪除二氧化硅、五氧化二钛、金属铬等复合镀层，同时不损伤蓝宝石基材。
配槽浓度：原液。
使用温度：30-50 ℃ 。
无损伤拆解液 KL-2203/无损伤拆解液KL-2203是一款针对使用酚醛树脂，环氧树脂等胶粘剂的玻璃与玻璃、玻璃与金属等材料组件重新分拆为各元件的环保型高效拆解液。该产品化学性能稳定，工作温度低，拆解速度快，对玻璃和金属环等基材都没有损
伤，有效降低废品率。在指纹识别组件和摄像头组件中光学玻璃或蓝宝石玻璃与金属环分拆领域有着广泛的用途。
配槽浓度：原液使用
使用温度：75-85℃
使用时间：10-30min
拆解液 KL-2251/拆解液KL-2251是一款针对使用UV胶和酚醛树脂或环氧树脂等胶粘剂的玻璃与玻璃、玻璃与金属等材料组件重新分拆为各元件的环保型高效拆解液。该产品化学性能稳定，工作温度适中，拆解速度适中，对大多数基材都没有损伤。
在指纹识别组件和摄像头组件中光学玻璃或蓝宝石玻璃与金属环分拆领域有着广泛的用途。
配槽浓度：原液使用
使用温度：85-90℃
使用时间：15-45min
脱胶液 KL-2310系列/脱胶液KL-2310是一款针对玻璃或金属等基材上的UV胶、酚醛树脂、环氧树脂、丁晴橡胶等胶粘剂清除的高效脱胶液。同时，对各种移印、丝印，感光等油墨的清除也有相当好的效果。该产品化学性能稳定，工作温度低，脱胶速度快，
对玻璃无损伤，对金属及其不同颜色镀层等基材不异色。
配槽浓度：原液使用
使用温度：60-80℃
使用时间：5-30min
脱胶保护液 KL-2150/脱胶保护液KL-2150是一款与脱胶液KL-2310等脱胶液配套使用的药水，该产品化学性能稳定，工作温度低，工作速度快，对玻璃无损伤，对金属及其不同颜色镀层等基材不异色。
配槽浓度：原液使用
使用温度：20-40℃
使用时间：3-5min
蓝宝石褪镀液 KL-2620/蓝宝石褪镀液KL-2620是一款针对碳氮硅铬复杂镀层的蓝宝石基材药水，广泛应用于智能手表蓝宝石盖板上。该产品化学性能稳定，工作温度适中，褪镀速度快，对蓝宝石玻璃无损伤。
配槽浓度：原液使用
使用温度：80-85℃
使用时间：5-15min
不锈钢酸洗钝化液 KL-2400/不锈钢酸洗钝化液KL-2400是一款针对铁锈、焊斑、油污、黑色和黄色氧化皮的清除并同时对不锈钢工件进行全面钝化的药水，它大大提高不锈钢工件的抗腐蚀性能，真正达到酸洗、钝化二合一的功效。经过不锈钢酸洗钝化液处理过的不锈钢工件表面会产生得到漂亮的银白色钝化膜。
配槽浓度：原液使用
使用温度：常温
使用时间：5-30min
除油清洗剂 KL-2122/除油清洗剂KL-2122是一款低泡沫、环保产品，适用于喷淋方式。清洗力强、清洗后喷淋水洗槽低泡沫，易漂洗，加
温使用时对清洗过种中由于皂化产生肥皂泡沫的消泡性好。
配槽浓度：5-10%
使用温度：50-60℃
使用时间：依据待处理工件的表面状况的严重程度决定开起传送速度
AF膜清洗剂 KL-2108/AF膜清洗剂广泛适用于光学玻璃、手机盖板玻璃、ITO玻璃、触摸屏、太阳能玻璃、数码镜片、LCD屏、高级玻璃幕等相关产品镀膜后的清洗。润湿渗透性好，与水混合后形成稳定的水溶液，易漂洗，可生物降解，并易于处理。
配槽浓度：5-10%
使用温度：50-60℃
使用时间：依据待处理工件的表面状况的严重程度决定开起传送速度
研磨清洗剂 KL-2160/研磨清洗剂KL-2160是一款针对玻璃CNC、精雕、研磨、抛光、钢化后的清洗，该化学品对玻璃加工的切削液、研磨抛光液、氧化铈、玻璃粉以及顽固霉点、脏污、手指印等有很强的清洗效果。主要用于白片玻璃、盖板玻璃、平板玻璃、触摸屏、光学镜片、光学玻璃等表面清洗。
配槽浓度：10%
使用温度：60-65℃
使用时间：5-15min
负型显影液KL-2900/kL-2900是水基性负型显影液，具有显影干净、亲和力性能好等特点。
配槽浓度： 原液稀释到1-10%，推荐最佳使用浓度为1-5%。
使用温度：25-35℃，最佳使用温度为28-30℃。
GS显影液KL-2902/GS负型显影液KL-2902适用于手机TP等负性胶的显影。可有效防止和减少钠离子的污染，具有显影干净、亲和力性能好等优点，有利于提高分辩力。
配槽浓度： 加纯水稀释，保持使用槽液的电导度在适合的范围内。
使用温度：20-25℃，最佳使用温度23℃。
正型显影液KL-2904/正型显影液KL-2904适用于IC，LCD，手机TP等制造用正性光刻胶的显影。可以有效防止和减少钠离子的污染，具有
显影干净、亲和力性能好等特点。
配槽浓度： 约原液浓度的10%，或根据实际情况。
使用温度：20-25℃，最佳使用温度为23℃。
GFF剥膜液KL-2704/KL-2704是针对黄光制程中为褪除覆着在基材表面的光刻胶而研制的一种环保型高效剥膜液。本产品剥膜速度快，不损伤基材，使用寿命长，使用过程中不水解，不沉淀，泡沫少，漂洗性好，对需要多次剥膜的产品起极好的保护作用。
配槽浓度： 原液浓度
使用温度：35-45℃，最佳使用温度为38-44℃。
光阻剥膜液 KL-2706A/KL-2706A是一种有机碱温和体系的光阻剥膜液。本产品剥膜速度快，不损伤基材，使用寿命长，使用过程中不水解，
不沉淀，泡沫少，漂洗性好。
配槽浓度：原液。
使用温度： 25-48℃。
蚀刻液KL-2602/ITO蚀刻液KL-2602是针对ITO玻璃图形褪镀而研制的一种环保型酸性褪镀液。该产品化学性能稳定，单位体积的药液
褪镀量大，褪镀速度快，有效降低废品率。对亚克力，PC板材等基材无损伤，处理后的产品清澈透明。
配槽浓度： 原液使用。
使用温度：35-50℃，最佳使用温度为40-45℃。
